產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
文章詳情
成越科儀高真空鍍膜儀操作流程
日期：2026-03-13 02:56
瀏覽次數(shù)：2337
摘要：高真空鍍膜儀操作流程：1.開啟循環(huán)水，并檢查循環(huán)情況和是否漏水。2.開啟電源總閥。3.打開真空室的手動(dòng)放氣閥放氣，放氣結(jié)束后關(guān)閉手動(dòng)放氣閥。接著打開真空室蓋。4.放置蒸鍍金屬和樣品，關(guān)閉真空室蓋。5.開啟真空計(jì)，開啟機(jī)械泵，然后打開前級(jí)閥。6.待真空度小于10Pa后開啟分子泵。待真空度小于7*10-4Pa后開始蒸鍍（蒸鍍期間不要關(guān)閉機(jī)械泵、前級(jí)閥和分子泵）。
高真空鍍膜儀操作流程：
1.開啟循環(huán)水，并檢查循環(huán)情況和是否漏水。
2.開啟電源總閥。
3.打開真空室的手動(dòng)放氣閥放氣，放氣結(jié)束后關(guān)閉手動(dòng)放氣閥。接著打開真空室蓋。
4.放置蒸鍍金屬和樣品，關(guān)閉真空室蓋。
5.開啟真空計(jì)，開啟機(jī)械泵，然后打開前級(jí)閥。
6.待真空度小于10Pa后開啟分子泵。待真空度小于7*10-4Pa后開始蒸鍍（蒸鍍期間不要關(guān)閉機(jī)械泵、前級(jí)閥和分子泵）。
（1）開啟并設(shè)置膜厚控制系統(tǒng)。
（2）開啟樣品架旋轉(zhuǎn)按鈕（5%-10%），并打開樣品托擋板。
（3）開啟蒸鍍電極電源并檢查腔體內(nèi)擋板情況
（4）膜厚儀示數(shù)歸零。
（5）調(diào)節(jié)電流值（銀38A；金50A）開始蒸鍍。
（6）當(dāng)膜厚達(dá)到要求值后先關(guān)擋板后，再將電流調(diào)節(jié)閥歸零，并蓋住樣品托。
（1）關(guān)閉真空計(jì) ！！！！
（2）關(guān)閉分子泵，當(dāng)分子泵示數(shù)為零時(shí)，關(guān)閉前級(jí)閥，*后關(guān)閉機(jī)械泵。
（3）打開真空室手動(dòng)放氣閥，放氣結(jié)束后再關(guān)閉放氣閥。
（4）取出樣品（此時(shí)可以放置下一次要蒸的樣品）。
（5）開啟真空計(jì)，打開機(jī)械泵，前級(jí)閥，將真空室抽真空至10Pa以下。
（6）關(guān)閉真空計(jì)，關(guān)閉前級(jí)閥和機(jī)械泵。
（7）關(guān)閉設(shè)備總電源和墻上總電源以及循環(huán)水系統(tǒng)。
若出現(xiàn)異常，請(qǐng)先關(guān)閉分子泵！！！緊急情況，請(qǐng)關(guān)閉總電源！！！！
