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雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點(diǎn)：
1、配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡(jiǎn)便。
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格：
項(xiàng)目
明細(xì)
產(chǎn)品型號(hào)
CY-MSH325- II-DCRF-SS
供電電壓
AC220V，50Hz
整機(jī)功率
4KW
系統(tǒng)真空
≦5×10-4Pa
樣品臺(tái)
外形尺寸
φ140mm
加熱溫度
≦500℃
控溫精度
±1℃
可調(diào)轉(zhuǎn)速
≦20rpm
磁控靶槍
靶材尺寸
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
冷卻模式
循環(huán)水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔體
腔體尺寸
直徑φ325mm，高度500mm
腔體材質(zhì)
SUU304不銹鋼
觀察窗口
直徑φ100mm
開(kāi)啟方式
頂開(kāi)式
氣體控制
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統(tǒng)
配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S
膜厚測(cè)量
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源
直流電源500W,射頻電源500W
控制系統(tǒng)
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)
設(shè)備尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
設(shè)備重量
350kg
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